【48812】清华大学请求阴离子交流膜专利该专利技术能到达简化制备进程并进步离子电导率的作用
金融界2024年4月9日音讯，据国家知识产权局公告，清华大学请求一项名为“一种阴离子交流膜及其制备办法和使用“，公开号CN117844038A，请求日期为2023年12月。
专利摘要显现，本请求供给一种阴离子交流膜及其制备办法和使用，该办法，包含以下进程：S10：将水溶性大环主体分子涣散于水中，得到榜首溶液，其间，所述水溶性大环主体分子包含葫芦脲类化合物、杯芳烃类化合物、环糊精类化合物中的至少一种；S20：将阴离子交流树脂涣散于偶极非质子溶剂中，得到第二溶液；S30：将所述榜首溶液和所述第二溶液混匀，使所述水溶性大环主体分子与所述阴离子交流树脂中的阳离子基团特异性结合，得到混合浆料；S40：将所述混合浆料涂覆枯燥成膜，使混合浆猜中溶剂蒸发，再将膜资料洗刷，使水溶性大环主体分子去除，以得到阴离子交流膜。该办法进程简略，且得到的阴离子交流膜具有较高的离子电导率。
